本设备采用垂直涂覆工艺,专为实现大面积、高一致性的平面湿法薄膜制备而设计。搭载高带宽运动控制系统,精确协同模头升降、供料与速度;集成纳米级在线测量传感器,全程保障涂层厚度均匀性。
涂覆基材覆盖范围:600×600mm~ 2400×1200mm
涂覆湿厚:≥3um 成膜干厚:优于5%(@500nm)
最大涂覆速度:80mm/s 产能节拍:约1ppm(需配合高速上下料系统实现)